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全自動刷片清洗設備，用于硅片、藍寶石片等材料片的清洗工藝。該設備利用刷洗的方式，對切、磨、拋后的晶圓進行清洗。    

   全自動單晶圓材料清洗設備，用于硅片、鍺片等材料片的最終清洗工藝。    

   CDS 化學液自動供給系統，廣泛應用于集成電路、半導體材料加工、LED、太陽能光伏、MEMS及分立器件等行業中濕法設備化學液自動供給，可實現溶液自動加液、補液及配液

自動精密濕法刻蝕設備，可應用于硅片清洗、無圖形薄膜去除（如氮化硅和鈦的去除）、鋁腐蝕、金刻蝕、鎳刻蝕、Si刻蝕、SiO2刻蝕等工藝。    

SFQ/SFQZ系列濕法設備廣泛應用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導體材料加工、太陽能光伏等領域，用于各種半導體基片及類似材料制造過程中濕化學處理工藝，有手動、半自動及全自動三種配置。

  自動去膠清洗設備，用于去除基片表面刻蝕工藝過程中作為刻蝕材料保護膜的光刻膠掩膜，也可用于基片表面其它有機物的等離子體清洗。

四十五所密切跟蹤太陽能光伏行業發展，致力于“設備+工藝”的研發模式，現已形成30MW和60MW兩種能規模的主流生產線的設備配套能力，批次處理產能為200片，300片，400片。目前用戶分布在廣東、江蘇