低溫退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對(duì)不同的效果而設(shè)計(jì)的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動(dòng)摻雜劑或?qū)诫s劑從一個(gè)薄膜轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。低溫退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計(jì)的設(shè)備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結(jié)構(gòu)，采用纖維結(jié)構(gòu)，節(jié)電60%。

退火爐骨架由各種型鋼焊接而成，外框用槽鋼作主梁，圍板采用冷薄板，臺(tái)車用槽鋼作主梁，底板及前后端板采用中板。退火爐傳動(dòng)部分：臺(tái)車傳動(dòng)采用電動(dòng)機(jī)、減速機(jī)通過鏈條帶動(dòng)前端一組主動(dòng)輪傳動(dòng)。爐門傳動(dòng)是采用蝸輪減速機(jī)和電動(dòng)機(jī)組合電動(dòng)升降。

退火爐燃燒系統(tǒng)：在油爐兩側(cè)各安裝數(shù)只燒咀，熱流在爐內(nèi)往復(fù)循環(huán)，確保爐溫均勻性。根據(jù)需要可選定自動(dòng)型和半自動(dòng)型。